消息，根據企查查數據顯示有研硅（688432）新獲得一項發明專利授權，專利名為“一種用于消除半導體拋光片表面色斑的裝置與方法”，專利申請號為CN202311498465.X，授權日為2024年2月13日。

　　專利摘要：本發明公開了一種用于消除半導體拋光片表面色斑的裝置與方法，屬于半導體材料加工領域。該裝置具備：反應室、紫外光源組件、臭氧循環系統以及旋轉機構；其中，反應室由上反射板、下反射板及反射腔室組成，上反射板和下反射板分別與反應腔室側壁密封連接，在反射腔室側壁的上部和下部分別通過氣密閥經密封管路與臭氧循環系統連接；紫外光源組件包括設置在反應室內的紫外光源陣列以及控制照射光強度與時間的紫外光功率控制器；旋轉機構包括花籃卡臺、驅動電機、滾軸，所述滾軸設置在花籃卡臺上，并與花籃內的拋光片的邊緣摩擦接觸；所述驅動電機驅動滾軸轉動從而帶動拋光片旋轉。該方法通過紫外線陣列及臭氧循環去除拋光片表面的色斑。

　　今年以來有研硅新獲得專利授權3個，較去年同期增加了200%。結合公司2023年中報財務數據，2023上半年公司在研發方面投入了4347.69萬元，同比增17.39%。

　　數據來源：企查查